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紫外分光片（S2面增透膜AR 700-1100nm） 楔形分光片的楔角以及背面的增透膜可將后表面反射的鬼像干擾減小。高精度基片確保反射及透射光波前精度。我們提供提供多種分束比的楔形分光片，增透膜包括UV、VIS、 NIR。

平面全息光柵通常用于對雜散光敏感的應用中。其基底鍍有光敏材料，將有光敏材料涂層的基板置于由激光器產生的單色光和相干光束組成的相交光束之間，使光敏材料感光。相交激光束產生一系列平行且等距的干涉條紋，條紋強度按照正弦曲線形狀變化。由于光敏材料的溶解度由對其照射的光強決定，干涉條紋顯示了光敏材料表面不同光強。然后可以對基底鍍反射膜然后用與復制刻劃的原始光柵相同的過程用于復制。

透射式光柵光路設計簡單，對于使用固定式光柵的應用，透射光柵優勢明顯，比如光譜儀。入射光束在光柵背面以固定角度發生色散。透射式光柵對一些類型的光柵準直誤差不敏感。為了獲得高衍射效率，透射式光柵刻線密度不高。衍射角會隨刻線密度的增加而增大，基底材料的折射率限制了長波的透射率，從而導致性能降低。光柵的色散特性使其適用于使用小型探測器陣列的緊湊系統。這種光柵對于偏振也不敏感。

透射光柵分光片通常用于He-Ne激光束的分光和可見范圍內多條激光的分離。透射的光束被衍射為多階。由在拋光玻璃基底上鍍的與之折射率相匹配的環氧樹脂復制層所構成，以此獲得更高的總衍射效率。這些分束器專門設計用于He-Ne激光器分光。

平面刻線衍射光柵（12.7x12.7x6mm） 制作原始或者母光柵的初始步驟是對基底材料的選擇，通常為玻璃或者銅。將基底材料拋光至高平整度并對其鍍一層很薄的鋁膜。刻劃平行度和刻線的等距需要漫長的時間進行調整，可能需要花費幾天進行設置并在實際刻劃之前進行測試。刻劃機必須能夠在每次刻劃后讓鉆石刀頭按精路線折回，并按預定量對基底進行刻劃。刻線的平行度和位移必須精控制。

平面刻線衍射光柵（25x25x6mm） 制作原始或者母光柵的初始步驟是對基底材料的選擇，通常為玻璃或者銅。將基底材料拋光至高平整度并對其鍍一層很薄的鋁膜。刻劃平行度和刻線的等距需要漫長的時間進行調整，可能需要花費幾天進行設置并在實際刻劃之前進行測試。刻劃機必須能夠在每次刻劃后讓鉆石刀頭按精路線折回，并按預定量對基底進行刻劃。刻線的平行度和位移必須精控制。

平面刻線衍射光柵（50x50x9.5mm） 制作原始或者母光柵的初始步驟是對基底材料的選擇，通常為玻璃或者銅。將基底材料拋光至高平整度并對其鍍一層很薄的鋁膜。刻劃平行度和刻線的等距需要漫長的時間進行調整，可能需要花費幾天進行設置并在實際刻劃之前進行測試。刻劃機必須能夠在每次刻劃后讓鉆石刀頭按精路線折回，并按預定量對基底進行刻劃。刻線的平行度和位移必須精控制。

立方分光棱鏡（寬帶增透400~700nm）與分光片相比，分光棱鏡的反射及透射光光程是相等的。在透光時，分光棱鏡沒有光線偏移造成的影響，所以不會存在光束平移，鬼像以及干涉的困擾。用于分光及成像。45°角入射時無需長時間校準。