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Eksma ND：YAG激光脈沖的電動可變衰減器

簡要描述：Eksma ND：YAG激光脈沖的電動可變衰減器
該可變衰減器/分束器由直徑為50.8毫米的UV FS薄膜布魯斯特型偏振片組成，該偏振片反射s偏振光，同時透射p偏振光，并安裝在分束器安裝座840-0056-12和石英零階（光學接觸）中。半波片直徑25.4毫米（用于飛秒應用）或零級空氣間隔半波片（用于高功率應用），其放置在旋轉的偏振片支架840-0190-01中，并放置在入射的線性偏振激光束中。

產(chǎn)品品牌：Eksma
廠商性質：代理商
更新時間：2021-03-19
訪問量：1446

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產(chǎn)品分類

Product Category

詳細介紹

品牌	Eksma	價格區(qū)間	面議
組件類別	光學元件	應用領域	醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子/電池,綜合

Eksma 飛秒級和ND：YAG激光脈沖的電動可變衰減器990-0072M

Eksma ND：YAG激光脈沖的電動可變衰減器

具有ø22 mm通光孔徑的電動可變衰減器，由薄膜偏振片，半波片和光機械組成，易于設置。波片的電動旋轉允許連續(xù)改變輸出光束的強度比。

產(chǎn)品介紹

Ø將激光束分為兩束手動調(diào)節(jié)的強度比，以68°角分開

Ø大動態(tài)范圍

Ø透射光束偏移?1毫米

Ø高光學損傷閾值

該可變衰減器/分束器由直徑為50.8毫米的UV FS薄膜布魯斯特型偏振片組成，該偏振片反射s偏振光，同時透射p偏振光，并安裝在分束器安裝座840-0056-12和石英零階（光學接觸）中。半波片直徑25.4毫米（用于飛秒應用）或零級空氣間隔半波片（用于高功率應用），其放置在旋轉的偏振片支架840-0190-01中，并放置在入射的線性偏振激光束中。

可以通過旋轉波片來連續(xù)改變那兩個分離且不同的偏振光束的強度比，而無需改變其他光束參數(shù)。可以在很寬的動態(tài)范圍內(nèi)控制出射光束的強度或其強度比。可以選擇P偏振以獲得較大的透射率，或者當透射光束發(fā)生較大衰減時可以反射高純度s偏振。

840-0056-12運動學安裝座允許將薄膜Brewster型偏振片的入射角（AOI）調(diào)整為±4.5°，并獲得較大的消光對比度。支架位于桿，桿支架和可移動基座820-0090上。

距桌面的光軸高度可以在78-88 mm的范圍內(nèi)調(diào)節(jié)。可以提供其他高度作為定制，以將標準桿和桿架更改為更高的高度。

Eksma ND：YAG激光脈沖的電動可變衰減器

產(chǎn)品型號

飛秒激光脈沖

型號	波長	損壞閾值	配置
990-0072-343M	343 nm	>10 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm	without controller & power supply
990-0072-343M+CP	343 nm	>10 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm	with controller & power supply
990-0072-400M	400 nm	>10 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm	without controller & power supply
990-0072-400M+CP	400 nm	>10 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm	with controller & power supply
990-0072-515M	515 nm	>10 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm	without controller & power supply
990-0072-515M+CP	515 nm	>10 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm	with controller & power supply
990-0072-800M	800 nm	>10 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm	without controller & power supply
990-0072-800M+CP	800 nm	>10 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm	with controller & power supply
990-0072-800BM	780-820 nm	>10 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm	without controller & power supply
990-0072-800BM+CP	780-820 nm	>10 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm	with controller & power supply
990-0072-1030M	1030 nm	>10 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm	without controller & power supply
990-0072-1030M+CP	1030 nm	>10 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm	with controller & power supply
990-0072-1030BM	1010-1050 nm	>10 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm	without controller & power supply
990-0072-1030BM+CP	1010-1050 nm	>10 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm	with controller & power supply

大功率激光應用

型號	波長	損壞閾值	配置
990-0072-266HM	266 nm	>100 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm	without controller & power supply
990-0072-266HM+CP	266 nm	>100 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm	with controller & power supply
990-0072-343HM	343 nm	>100 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm	without controller & power supply
990-0072-343HM+CP	343 nm	>100 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm	with controller & power supply
990-0072-400HM	400 nm	>100 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm	without controller & power supply
990-0072-400HM+CP	400 nm	>100 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm	with controller & power supply
990-0072-515HM	515 nm	>100 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm	without controller & power supply
990-0072-515HM+CP	515 nm	>100 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm	with controller & power supply
990-0072-800HM	800 nm	>100 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm	without controller & power supply
990-0072-800HM+CP	800 nm	>100 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm	with controller & power supply
990-0072-800HBM	780-820 nm	>100 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm	without controller & power supply
990-0072-800HBM+CP	780-820 nm	>100 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm	with controller & power supply
990-0072-1030HM	1030 nm	>100 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm	without controller & power supply
990-0072-1030HM+CP	1030 nm	>100 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm	with controller & power supply
990-0072-1030HBM	1010-1050 nm	>100 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm	without controller & power supply
990-0072-1030HBM+CP	1010-1050 nm	>100 mJ/cm², 50 fs @ 800 nm	with controller & power supply

旋轉分辨率：全步模式

在1/8步進模式下

0.6 arcmin
4.5 arcsec

較高轉速

50 deg/s

適用于Nd：YAG激光應用

通光孔徑	22 mm
損害閾值	>5 J/cm2 pulsed at 1064 nm, typical
偏振比	>1:200

飛秒應用

通光孔徑	22 mm
損害閾值大功率激光應用：	>10 mJ/cm2, 50 fs pulse at 800 nm, typical >100 mJ/cm2, 50 fs pulse at 800 nm, typical
時間分散	t<4 fs for 100 fs Ti:Sapphire laser pulses
偏振比	>1:200

推薦設置

控制器	980-1045
電源	PS12-2.5-4

上述控制器和電源已包含在衰減器套件中，其代碼結尾為“ + CP”。

EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。我們的激光組件可在科學，工業(yè)，醫(yī)學，美學，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質和非線性頻率轉換晶體，光機械，帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商，它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業(yè)務，其基礎是在激光和光學領域的長期專業(yè)知識。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質量控制實驗室的高質量測試和認證。通過嚴格的檢查程序，質量控制評估以及對新技術的承諾，我們不斷改進并提供優(yōu)良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001：2015認證。必維檢驗集團（Bureau Veritas）頒發(fā)的認證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

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